流苏10E5E6-1565758
  • 型号流苏10E5E6-1565758
  • 密度409 kg/m³
  • 长度58847 mm

  • 展示详情

    流苏10E5E6-1565758光刻机主要发展历程

    流苏10E5E6-1565758再就是光学系统结构的演进。

    20世纪六七十年代,流苏10E5E6-1565758接触式光刻机是集成电路制造的主流设备。这种机器曝光过程中掩膜版与硅片上的光刻胶直接接触,流苏10E5E6-1565758优点是可以减小光的衍射效应,缺点是会污染损坏掩膜版和光刻胶,缩短掩膜版使用寿命,且极易形成图形缺陷,影响良率。

    为了解决上述问题,流苏10E5E6-156575820世纪70年代开始采用接近式光刻机。这种光刻机在掩膜版和硅片之间有微小间距,流苏10E5E6-1565758由于掩膜版和硅片间距越小,光刻工艺的分辨率越高,当二者间距接近几十微米时,就很难再减小,而且会受衍射效应的影响。

    1973年,流苏10E5E6-1565758美国PerkinElmer公司推出首台扫描投影光刻机。这种光刻机与以往光刻机不同在于,流苏10E5E6-1565758光刻时以成像方式将掩膜图形投影转移到硅片上,分辨率由成像系统投影物镜的数值孔径(光学术语)决定。

    因此,流苏10E5E6-1565758为了进一步提高数值孔径改进光刻机性能,流苏10E5E6-1565758人类又发明出浸液式光刻机,也就是在某种折射率大于空气的超纯液体中进行光刻,工作时好像把“晶圆”浸没在超纯液体中一样。

    流苏10E5E6-15657583 光刻机又像机床

    光刻机又类似于一个机床,流苏10E5E6-1565758它的性能指标包括加工精度和加工速度两个方面,加工精度又可以细分为分辨率和套刻精度两个指标。